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福建德尔科技的高科技产品布局覆盖半导体制造、新能源、国防军工等战略领域,其核心产品以高纯度、高技术壁垒、国产替代为特征,以下是其重点产品线及技术亮点:
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n# M! n! Y) s) Z# w/ p* i 一、含氟电子特种气体(半导体制造关键材料)
$ z# d- q4 }( o- j! b- \$ T1. 电子级三氟化氯(ClF₃)
) G- |& O% n8 H s$ N. q9 j1 V2 u 技术指标:纯度≥99.999%(5N级),金属杂质≤0.1ppb 6 F2 a! k' e- v- O
应用:芯片制造中的蚀刻与清洗,尤其适用于3D NAND闪存的高深宽比结构加工。
# K( m/ U2 l( _* \) d4 F* l% j 地位:国内唯一实现规模化量产,全球仅林德、关东电化等3家企业掌握该技术。; p6 C2 D$ Y& N, t
8 R0 B' i7 ^ j- `% n. Y2. 六氟化钨(WF₆) , l& T0 i2 `1 G, T& w7 m2 Z) K6 ~6 \8 c
技术突破:开发钨粉氟化反应连续化工艺,转化率超99.5%,打破日本大阳日酸的垄断。
2 c1 }: ]2 x1 R6 k) {" z 应用:芯片金属互连层的化学气相沉积(CVD)。 }) }% g% G' l2 _
( S3 t. V! a5 H/ Q4 Z8 ]3. 一氟甲烷(CH₃F)与三氟甲烷(CHF₃) & v5 j; M& _. j. X3 G1 q. l: v
产能:2025年获生态环境部核发年配额2000吨(全国最大)。 6 n+ c2 q& ]# Y) s( L: b
用途:用于OLED显示面板的等离子体蚀刻,替代传统高GWP值气体。
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二、半导体湿电子化学品(芯片清洗与蚀刻液)
" d; E5 Q3 x* S1. 超高纯氢氟酸(UPWHF) 4 \: R6 u$ {7 p- Q9 I* Y
纯度等级:G5级(≥99.999999%),颗粒控制≤0.1μm。
2 W% H j' E r" L0 P* G 应用:12英寸晶圆清洗,适配5nm以下先进制程。 & j+ l: H8 ~; O" c% [2 e
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2. 缓冲氧化物蚀刻液(BOE) 1 j$ P' u Z: L7 R
配比精度:HF与NH₄F比例误差≤0.1%,稳定性达24个月。 4 g/ s6 v3 j, Y, Q$ Z
技术壁垒:解决氟硅酸盐结晶析出难题,适配高密度集成电路。
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三、新能源锂电材料(动力电池关键组分)
+ w0 X# O0 @: T4 B+ _1. 六氟磷酸锂(LiPF₆) % ^- l$ H& Q, y' i; m
工艺创新:采用氟化氢溶剂法,杂质离子(Cl⁻、SO₄²⁻)含量低于1ppm。
0 {7 g \ R- H8 Z% P' N% S 市占率:国内前五,供货宁德时代、比亚迪等头部电池厂。
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. T5 T" m' e- j' [9 {0 U0 i2. 双氟磺酰亚胺锂(LiFSI) 8 a1 _- [- n8 p/ [
技术地位:国内首家实现千吨级量产,能量密度提升15%。
: e* E2 r+ e* c: D" D G 专利布局:申请核心专利37项,覆盖合成工艺与纯化技术。
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+ \! i9 D8 ? K, E+ @ 四、含氟高能材料(国防与航天特种需求)
7 {! k8 ~* q' }6 K/ ^1. 全氟聚醚润滑剂
1 c) h0 N$ `3 U; `6 @; _ 性能:50℃至300℃宽温域稳定,用于卫星轴承与火箭发动机。
6 _9 G, O# H ]. s9 z 认证:通过航天科技集团QJ标准验证。 : p5 w' d6 I$ r% k6 p/ J# J
1 R7 L$ E' I9 ?( d$ ]; z& V: ^& q2. 氟氮混合推进剂
. S! z8 h) e8 [! y | 能量密度:比传统肼类燃料提升20%,用于高超音速飞行器。 9 b R( s, A7 Y; ~
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五、核心设备与工艺专利(自主可控保障)
% m$ }7 z5 S4 h' ]" W1. 微通道反应器技术
1 V0 K, G2 ]+ H$ }9 m 案例:三氟化磷(PF₃)生产采用微反应器,反应时间缩短至秒级,安全性提升90%。
; _ U$ t7 K7 d 专利:CN 119140029 B(2025年授权),解决传统釜式工艺易爆炸难题。 , {" R5 F5 i3 r: U* v
* i; o( s; s* w6 j2 m2. 全氟三丙胺连续生产装置
4 M- {, P0 Q' A: f) m+ S8 ?6 I 效率:通过自动补液与在线监测,产品纯度达99.99%,成本降低30%。 8 H" _( d' Y. J8 J- ~5 \1 K" d( H
应用:芯片制造中的冷却液与绝缘介质。
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# w8 H2 q# m8 [& }# A, y$ D/ \ 六、技术壁垒与行业意义
; g! Z; o2 \" z; I1. 国产替代率:其电子级三氟化氯、六氟化钨等产品已实现进口替代,国内市场份额超30%。
; g5 M* j1 W0 ^( P2. 技术迭代能力:2025年研发投入占比达15%,重点攻关2nm制程用氟碳化合物(如C₄F₆)。
3 z6 U4 K7 O. W( Y3. 环保合规:建立氟循环利用体系,副产物氟化钙回收率超98%,符合欧盟REACH法规。
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总结
" p# ?/ D! X- g# S1 K* S" k; @福建德尔科技的产品矩阵兼具技术高度与产业广度,从半导体关键材料到新能源、国防高精尖领域,均以超高纯度工艺与自主知识产权构建护城河。其核心产品不仅是国产替代的标志性成果,更是全球氟化工细分领域的“隐形冠军”级存在。 |
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